一种低成本化学镀NiWP溶液的再生方法

化学镀NiWP镀层具有更优异的耐蚀性和耐磨性，最近10年，国内已经公开近二十项的化学镀NiWP专利技术，但是使用周期都不长，且化学镀液不能再生，限制了其工艺技术的应用。化学镀NiWP镀液的组成有：1.硫酸镍和钨酸钠，分别提供镍和钨元素；2.还原剂是次磷酸钠，同时提供磷元素；3.络合剂选用柠檬酸钠，有的加入葡萄糖酸钠、乳酸钠等作用辅助络合剂；4.稳定剂、促进剂选用硫脲、氟离子、碘酸钾等；5.氨水或氢氧化钠调镀液的pH。化学镀过程中不断地加入硫酸镍、钨酸钠、次磷酸钠和氢氧化钠（氨水），沉积NiWP镀层，从而造成溶液中硫酸根离子、钠离子、铵根离子和次磷酸根的氧化产物亚磷酸根的积累，以及有机物的分解产物，其中亚磷酸根离子积累速度最快。如何有效地去除溶液中的这累积的产物，尤其是亚磷酸根离子，是化学镀NiWP溶液再生的关键。现有的化学镀镍磷镀液的再生有：1. 化学沉淀法；3.电渗析法；4.溶剂萃取法等；其它办法，本身价格都高，再加上钨酸根的干扰，所以拿来用于化学镀NiWP镀液的再生就显得非常不合适了。

华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项一种低成本化学镀NiWP溶液的再生方法，该技术与现有技术相比，该技术的有益效果是：该技术通过电解的办法把化学镀NiWP镀液中的亚磷酸根离子氧化成磷酸根离子，磷酸钠的溶解度小于亚磷酸钠的，所以更容易去除，同时把镀液中的重金属离子，如Pb2+(常用作化学镀液中的稳定剂)，电沉积除去，达到净化镀液的目的，再通过冷冻去除磷酸根、硫酸根和钠离子，变废为宝，提高化学镀NiWP溶液使用周期，降低生产成本，现将该一种低成本化学镀NiWP溶液的再生方法及技术方案及实施例介绍如下供研究交流参考：（841133  133608）